廢氣處理設(shè)備分類描述

 

廢氣處理設(shè)備主要是指一種環(huán)保設(shè)備，它可以通過回收或利用不同的技術(shù)去除和減少廢氣中的有害成分，從而保護環(huán)境和凈化空氣，使我們的環(huán)境不會受到污染。

1.吸收設(shè)備

在吸收法中，揮發(fā)性有機化合物被低揮發(fā)性或非揮發(fā)性溶劑吸收，然后通過揮發(fā)性有機化合物和吸收劑之間物理性質(zhì)的差異進行分離。

含VOCs的氣體從底部進入吸收塔，在上升過程中從塔頂與吸收劑逆流接觸，凈化后的氣體從塔頂排出。經(jīng)過熱交換器后，吸收劑吸收的揮發(fā)性有機化合物進入汽提塔頂部，在高于吸收溫度或低于吸收壓力的溫度下脫附。脫附的吸收劑由溶劑冷凝器冷凝，然后返回吸收塔。在通過冷凝器和氣液分離器后，脫附的揮發(fā)性有機化合物氣體作為相對純的揮發(fā)性有機化合物氣體離開汽提塔并被回收。該工藝適用于揮發(fā)性有機化合物濃度較高、溫度較低的氣體凈化，其他情況下需要相應(yīng)的工藝調(diào)整。

2.吸附設(shè)備

當(dāng)流體混合物用多孔固體物質(zhì)處理時，流體中的某種成分或某些成分可以吸附在表面并集中在其上。這種現(xiàn)象叫做吸附。廢氣經(jīng)吸附處理時，吸附對象是氣態(tài)污染物，氣固吸附。吸附的氣體成分稱為吸附質(zhì)，多孔固體物質(zhì)稱為吸附劑。

被吸附物吸附在固體表面后，被吸附的被吸附物的一部分可以從吸附表面分離出來，吸附表面是附著的。但吸附進行一段時間后，由于表面吸附質(zhì)的濃度，其吸附能力明顯降低，導(dǎo)致吸附凈化的要求。此時需要采取一定的措施，將吸附在吸附劑上的吸附質(zhì)脫附，增強其吸附能力。這個過程叫做吸附劑再生。所以在實際的吸附工程中，能夠去除廢氣中的污染物，回收廢氣中有用成分的是吸附-再生-重復(fù)吸附的循環(huán)過程。

3.凈化設(shè)備

燃燒法對處理高濃度Voc和有氣味的化合物非常有效。其原理是用過量的空氣燃燒這些雜質(zhì)，大部分產(chǎn)生二氧化碳和水蒸氣，可以排放到大氣中。但在處理含氯、硫的有機化合物時，燃燒產(chǎn)物中會產(chǎn)生HCl或SO2，燃燒后的氣體需要進一步處理。

4.治理設(shè)備

等離子體是一種電離氣體，它的英文名字叫等離子體，是1927年美國科學(xué)繆爾在研究低壓下汞蒸氣中的放電現(xiàn)象時命名的。等離子體是由大量的中子、中性原子、受激原子、光子和自由基組成，但電子和正離子的電荷數(shù)必須是電中性的，這就是“等離子體”的含義。等離子體與固體、液體、氣體在電導(dǎo)率、電磁影響等很多方面都不同，所以有人稱之為物質(zhì)的第四種狀態(tài)。根據(jù)狀態(tài)、溫度和離子密度，等離子體通常可分為高溫等離子體和低溫等離子體(饅頭和冷等離子體)。其中高溫等離子體電離度接近1，各種粒子溫度幾乎相同，處于熱力學(xué)平衡狀態(tài)。它主要用于受控?zé)岷朔磻?yīng)的研究。而低溫等離子體處于非平衡狀態(tài)，各種粒子的溫度不同。電子溫度(Te)≥離子溫度(Ti)可達(dá)104K以上，而其離子和中性粒子的溫度可低至300 ~ 500 k，一般氣體電子發(fā)射體屬于低溫等離子體。

5.光催化和生物凈化設(shè)備

光催化是一種室溫下的深度反應(yīng)技術(shù)。光催化氧化可以在室溫下將水、空氣和土壤中的有機污染物完全氧化成無毒無害的產(chǎn)品，而傳統(tǒng)的高溫焚燒技術(shù)需要在極高的溫度下破壞污染物，即使采用常規(guī)的催化和氧化方法，也需要幾度的高溫。

理論上，只要半導(dǎo)體吸收的光能不小于其帶隙能量，就足以激發(fā)電子和空穴，半導(dǎo)體可以用作光催化劑。常見的單一化合物光催化劑多為金屬氧化物或硫化物，如Ti0。、Zn0、ZnS、CdS、PbS等。這些催化劑對于特定的反應(yīng)具有突出的優(yōu)勢，可以根據(jù)具體研究的需要進行選擇。比如CdS半導(dǎo)體，帶隙能量小，與太陽光譜中的近紫外波段有較好的匹配性能，可以很好的利用自然光能量，但易受光腐蝕，使用壽命有限。相對而言，Ti02是一種應(yīng)用廣泛、研究較多的單一復(fù)合光催化劑。